對于光氧催化設(shè)備應(yīng)該及時做清灰處理！

光催化裝置具有高效、操作方便的特點，是許多工業(yè)廢氣凈化的主要設(shè)備。然而，許多制造商報告說，設(shè)備使用一段時間后，工作效率開始下降。造成這種情況的主要原因是維修工作的失敗，特別是設(shè)備內(nèi)部的灰塵清理。

1. 濾料使用一段時間后，由于各種作用，濾袋表面會積聚一層粉塵。這一層稱為初級層，它成為過濾材料的主要過濾層。

2,在過濾材料表面灰塵的積累,光氧催化設(shè)備的效率和阻力相應(yīng)增加,當(dāng)雙方之間的壓差過濾材料是非常大的,會被附加到一些粉塵粒子的過濾材料過去,除塵器的效率降低。除塵器阻力過大，會顯著降低除塵系統(tǒng)的風(fēng)量。

當(dāng)光氧催化裝置的阻力達到一定值后，應(yīng)及時除塵。清灰時不應(yīng)破壞初始層，以免降低效率。由于粉末反復(fù)附著在濾袋外表面，使得粉末層不斷增厚，阻力值相應(yīng)增大。脈沖閥開啟，脈沖閥膜片發(fā)出指令，打開高壓氣囊中的壓縮空氣，無粉塵工作停止。

3.光氧催化裝置如不及時清洗，不僅會增加裝置的工作壓力，而且會降低其效率，甚至導(dǎo)致工作無法進行。因此，只有及時正確的清洗設(shè)備，才能保證設(shè)備的使用壽命長。